====== Integrierter Schaltkreis (IC) ======

//Wird auch ''Mikrochip'' oder kurz ''Chip'' genannt.//

Der Integrierter Schaltkreis (IC) wurde 1959 patentiert.


===== Fotolithografie =====

Bei der [[https://de.wikipedia.org/wiki/Fotolithografie_(Halbleitertechnik)|Fotolithografie]] werden auf einer glatten Silizium-Oberfläche, mit Hilfe von Masken, seht kleine Strukturen aus lichtempfindlichen Lack aufgebracht, die dann durch Belichtung und verschiedene chemische Prozesse, Leiterbahnen, elektrische und elektronische Bauelemente entstehen lassen.

Auf diese Weise werden Integrierter Schaltkreis, auch ''Mikrochip'' oder kurz ''Chip'' genannt, hergestellt.


==== Lithografie von ca. 1978 bis ca. 1989 ====

  * Es wurde in diesem Zeitraum, mit optischer Fotolithografie gearbeitet.
  * Dabei wurden Quecksilberdampflampen bzw. Quecksilber-Kurzbogenlampen eingesetzt.
  * Bei den Quecksilberdampflampen wurden die Spektrallinien per Filter ausgewählt.
  * Dabei wurden Anfangs ''436 nm'', später ''405 nm'' und noch später ''365 nm'' ausgewählt.
  * Die Quecksilber-Kurzbogenlampen hatten eine Leistung von ''200'' oder ''350'' Watt.
  * Mit Wellenlängen von ca. **''436 nm''** (Hg-g-line) sind praktisch Strukturbreiten von **''3 µm''** erreichbar.
  * Licht mit der Wellenlängen von **''436 nm''** kann, mit herkömmlicher fotooptischer Technik, genutzt werden.
  * So kann man ca. ''1000-4000'' Transistoren pro mm², auf eine Silizium-Oberfläche herstellen.