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integrierter_schaltkreis_ic

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 ===== Fotolithografie ===== ===== Fotolithografie =====
  
-Bei der Fotolithografie werden auf einer glatten Silizium-Oberfläche, mit Hilfe von Masken, seht kleine Strukturen aus lichtempfindlichen Lack aufgebracht, die dann durch Belichtung und verschiedene chemische Prozesse, Leiterbahnen, elektrische und elektronische Bauelemente entstehen lassen.+Bei der [[https://de.wikipedia.org/wiki/Fotolithografie_(Halbleitertechnik)|Fotolithografie]] werden auf einer glatten Silizium-Oberfläche, mit Hilfe von Masken, seht kleine Strukturen aus lichtempfindlichen Lack aufgebracht, die dann durch Belichtung und verschiedene chemische Prozesse, Leiterbahnen, elektrische und elektronische Bauelemente entstehen lassen.
  
 Auf diese Weise werden Integrierter Schaltkreis, auch ''Mikrochip'' oder kurz ''Chip'' genannt, hergestellt. Auf diese Weise werden Integrierter Schaltkreis, auch ''Mikrochip'' oder kurz ''Chip'' genannt, hergestellt.
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   * Mit Wellenlängen von ca. **''436 nm''** (Hg-g-line) sind praktisch Strukturbreiten von **''3 µm''** erreichbar.   * Mit Wellenlängen von ca. **''436 nm''** (Hg-g-line) sind praktisch Strukturbreiten von **''3 µm''** erreichbar.
   * Licht mit der Wellenlängen von **''436 nm''** kann, mit herkömmlicher fotooptischer Technik, genutzt werden.   * Licht mit der Wellenlängen von **''436 nm''** kann, mit herkömmlicher fotooptischer Technik, genutzt werden.
-  * So kann man ca. 1000-4000 Transistoren pro mm², auf eine Silizium-Oberfläche herstellen.+  * So kann man ca. ''1000-4000'' Transistoren pro mm², auf eine Silizium-Oberfläche herstellen.
  
  
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