Wird auch Mikrochip oder kurz Chip genannt.

Der Integrierter Schaltkreis (IC) wurde 1959 patentiert.

Bei der Fotolithografie werden auf einer glatten Silizium-Oberfläche, mit Hilfe von Masken, seht kleine Strukturen aus lichtempfindlichen Lack aufgebracht, die dann durch Belichtung und verschiedene chemische Prozesse, Leiterbahnen, elektrische und elektronische Bauelemente entstehen lassen.

Auf diese Weise werden Integrierter Schaltkreis, auch Mikrochip oder kurz Chip genannt, hergestellt.

• Es wurde in diesem Zeitraum, mit optischer Fotolithografie gearbeitet.
• Dabei wurden Quecksilberdampflampen bzw. Quecksilber-Kurzbogenlampen eingesetzt.
• Bei den Quecksilberdampflampen wurden die Spektrallinien per Filter ausgewählt.
• Dabei wurden Anfangs 436 nm, später 405 nm und noch später 365 nm ausgewählt.
• Die Quecksilber-Kurzbogenlampen hatten eine Leistung von 200 oder 350 Watt.
• Mit Wellenlängen von ca. 436 nm (Hg-g-line) sind praktisch Strukturbreiten von 3 µm erreichbar.
• Licht mit der Wellenlängen von 436 nm kann, mit herkömmlicher fotooptischer Technik, genutzt werden.
• So kann man ca. 1000-4000 Transistoren pro mm², auf eine Silizium-Oberfläche herstellen.